半导体封装废水怎么处理方法|半导体封装废水处理案例
工作背景图片
该中小行业地处河南省南京市,主要是长期从事高端大气半导体行业集成块的封口检查,日的进行排放废储水量约200吨。由产量时候中运行好几种生物药液,电镀废水材质有难度,含带高有机会废气浓度铜、镍等巨资属或是环氧防锈漆树脂材料、光刻胶等有机会被污染的物。中小行业固有外理设施管理尚未需求2017最新的进行排放准则,急要在线升级改良。
废污水化学成分及来源地
真空镀膜化工废水
:来自于IC芯片引脚化学镀工艺程序,含铜、镍、锡等巨资属亚铁离子,pH值动荡大。
巧妙焦化废水
:重要是来自于装封胶固有、光刻新工艺,含环氧光敏树脂光敏树脂、异丙醇、二甲苯等有机质稀释剂。
酸性废污水
:引起于晶圆的清洗和蚀刻工艺技术,带有氢佛酸、硝酸钠、氢防氧化钠等。
治理加工生产流程
预除理时段.
腐蚀性中合
:能够 投加药剂操作系统调接pH至6-9,杜绝事件除理系统防腐蚀。
沥青混凝土放置
:污泥脱水PAC(整合氯化铝)和PAM(高密度聚乙烯酰胺),消除悬停物和位置高价属。
基本整理阶段中,
高层脱色
:利用Fenton化学药品(H₂O₂+Fe²⁺)工业制硝酸难可降解有机肥料物,COD洗去率达70%之上。
膜滤出
:ro反渗透到膜(UF)+ro反渗透到(RO)搭配生产工艺,进步挪用血本属和溶化性化合物物。
角度处置的时候
阴阳离子相互交换
:特别针对性铜、镍铝离子,确定溢水高价属含锌量压低0.5mg/L。
化学活化炭溶解
:作为一个从而保险,取除余留微量分析巧妙物。
终极治疗效果
经处置后,留水环境质量达到了《智能电子化工业水环境大气污染物排放口基准》(GB 39731-2020):COD<50mg/L、铜<0.3mg/L、镍<0.1mg/L,中水回用率加快至60%,每人每年不仅节约污水投资成本约80千元。