半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法
品牌视频背景
这活动地属长三边形区域某国度级半导体技术产业链苑区,工业企业基本研发89屏幕尺寸和129屏幕尺寸晶圆,日产尼桑量可达到2万片。跟随产值升高,固有的化工废水处置系统软件已无非满意环境想要,现需晋级拆除。活动总创业约1五百万元,结构设计处置的能力为300吨/日,于202半年开建投产。
电镀废水材质及种类
该品牌晶圆片区流程导致的化工废水重要包函以内化学成分:
分割工作中的使用的粉磨液农药残留物,主要的化学物质为二氧化反应硅颗料、表明吸附性剂和生物碳插入剂
晶圆表面能进行维护清洁带来的含氟生产废水,氟亚铁离子密度在80-120mg/L
多量巨资属铝离子如铜、镍等,来历于割切生产工具变形
有机物石油醚无残留,还包括异丙醇、甲苯等
pH值变化比较大的,一般性在4-10左右
处理工艺设计注意事项
采取电镀废水属性,构思按照"物理预治理+生物化治理+厚度治理"的搭配鑫霖环保:
缓解池
:均等化水体供水量,设计pH优酷云监控和自己投加药剂软件系统
混凝土沉定
:添加PAC和PAM,祛除自动隐藏物和溶液材质
气浮单无
:应用溶气气浮技术进步骤清除狗瘟小粒和组成部分卤素元素物
生化学治理
:利用MBR膜生物体反應器,厌氧颗粒污泥氧化还原电位提升在8000-10000mg/L
程度整理
:活力炭吸附物+超滤性和流程,为了确保喷水考核标准
污泥干化处置
:板框过滤机脱水器,飞灰含水分率降下来60%以內
工作目的
机系统稳定的运转后,出水量水体彻底完成《电子为了满足电子时代发展的需求,工业品水破坏物尾气的排放标淮标淮》(GB39731-2020)特殊尾气的排放标淮标准值的要求:
COD<30mg/L
氟正离子<5mg/L
飘浮物<10mg/L
血本属贴心的售后服务质量指标均超过允许值
楼盘今年可可以减少空气污染物质废气占有量上涨约COD 32吨、氟化物8.5吨,中水回用水率做到75%大于,为客户节俭煤气费收入支出约140万元/年。